Rotative Targets

Tiefschmelzpunkttargets, anhand eines patentierten hergestellt, kontinuierlichen Giessprozesses.

Zusammen mit “Ansun Protective Metals” haben wir einen neuartigen, kontinuierlichen Giessprozess zur Herstellung von rotativen Targets entwickelt. Es handelt sich um einen patentierten, kontinuierlichen vertikalen Giessprozess, welcher eine homogene metallurgische Targetstrukur sicherstellt.

Eine automatisierte Maschine mit permanenter Temperaturkontrolle erlaubt einen durchgehend kontrollierbaren Herstellprozess, selbst bei einer Targetlänge von bis zu 4 Meter.

Diese Giesstechnik erlaubt uns eine sehr gute Kontrolle über die chemische Bindung zwischen dem Trägerrohr und dem Targetmaterial. So wird die Effizienz der Targetkühlung während des Sputterprozesses maximiert.

Zusätzlich haben wir die Herstellprozedur optimiert, damit die Targets nach Gebrauch wieder aufgefüllt werden können. Durch Wiedergebrauch des alten Trägerrohres werden merkbar die Gesamtkosten des sogenannten C-Cast (Continuous-Cast) Targets gesenkt. Gebrauchte Trägerrohre werden auf ihre Geradheit überprüft und gegebenfalls mit einer von uns speziell entwickelten Maschine ausgerichtet.

Aktuell vorhanden Werkstoffe:

• Reinzinn, Reinzink, Zink-Aluminium Legierungen und Zink-Zinn Legierungen.
• Andere Niedrigtemperaturschmelzpunkt Legierungen auf Anfrage.

Eine komplette neue kontinuierliche Giessmaschine wurde am Anfang 2014 in unserem Gebäude in Ellange installiert, damit die Bestände von unseren Kunden in ganz Europa decken können.

Zusammengefasst bietet unser C-Cast Target folgende Vorteile:

• Homogene metallurgische Struktur über die gesamte Targetlänge.
• Chemische Bindung zwischen dem Trägerrohr und dem Targetmaterial für eine maximale Kühlungseffizienz während der Zerstäubungsprozesses.
• Diverse Wiederauffüllungen des Targets möglich dank unserer optimierten Herstellprozedur.
• Bei jeder Wiederauffüllung wird die Konzentrizität des Rohres überprüft und gegebenenfalls wiederhergestellt.